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对PECVD工序镀膜工艺的优化分析

在PECVD工序石墨膜参与生产到一定的次数后,都必须经过清洗、烘干、饱合等一系列的处理之后才能再次进行生产使用。在现行的镀膜工艺中要使用硅片镀膜,需进行两次镀膜才能完成饱合的过程,详细步骤如下图。结合下图,一次镀膜工艺的时间5410S≈89min,如果用硅片...www.tyngcgs.com
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